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上海交通大學(xué)先進(jìn)電子材料與器件平臺助推微納加工領(lǐng)域攀高峰
2024年11月26日 19:37   來源:中新網(wǎng)上海  

  中新網(wǎng)上海新聞11月26日電(許婧)上海交通大學(xué)先進(jìn)電子材料與器件平臺(以下簡稱“AEMD平臺”)26日迎來十周年慶,同時平臺正式開放二、三期運(yùn)行。

  AEMD平臺創(chuàng)建于2012年,目標(biāo)是建立一個服務(wù)于全校的微納加工工藝實驗平臺,并面向校外科研院所和企業(yè)開放共享。一期凈化工程于2014年建成并于同年11月正式向校內(nèi)外用戶開放服務(wù),當(dāng)時建設(shè)的工藝線為具有納米尺寸圖形化能力的6英寸無源微納結(jié)構(gòu)與器件加工的科研實驗線,工藝能力涵蓋光刻、薄膜、刻蝕、熱工藝等全鏈?zhǔn)轿⒓{加工工藝。十年來平臺為上海交通大學(xué)多學(xué)科發(fā)展和交叉融合做出了突出貢獻(xiàn),同時平臺面向國家需求,積極對接校外科研院所和科技企業(yè)的項目需求,助推科研項目基礎(chǔ)與應(yīng)用研究進(jìn)程,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng)新與突破。

  面向國家重大需求,服務(wù)學(xué)校雙一流建設(shè),平臺聚焦微納技術(shù)學(xué)科前沿,打破學(xué)科壁壘,強(qiáng)化交叉融合,突破關(guān)鍵核心技術(shù),培養(yǎng)國家急需人才。繼2014年AEMD一期西區(qū)實驗室正式開放運(yùn)行后,在學(xué)校及電院支持下,追加逾3億元投入平臺二、三期建設(shè),建成1200余平米、潔凈度從十級到千級標(biāo)準(zhǔn)的東區(qū)超凈間,F(xiàn)整體擁有近 1800 平米東、西區(qū)兩個凈化實驗室,6、8英寸先進(jìn)微納加工實驗線各一條,具備多層級光刻圖形化、薄膜生長與沉積、干法刻蝕、濕法清洗與刻蝕、先進(jìn)封裝、表征與測試等完善的微納加工與測試能力,新增全自動深紫外步進(jìn)式光刻機(jī)、離子注入機(jī)、分子束外延、激光誘導(dǎo)玻璃刻蝕、晶圓鍵合等先進(jìn)的微納加工與封裝設(shè)備,有效增強(qiáng)了平臺在有源電/光器件、MEMS、先進(jìn)三維封裝等領(lǐng)域的科研服務(wù)支撐能力。

  中國科學(xué)院院士、深圳大學(xué)校長、曾任AEMD平臺一期、二期項目負(fù)責(zé)人毛軍發(fā)特別發(fā)來祝賀視頻,高度肯定平臺建設(shè)成果,寄語平臺堅持面向國家重大需求,扎實積累,助推關(guān)鍵技術(shù)突破。

  近年來,隨著萬物互聯(lián)、人工智能等技術(shù)的飛速發(fā)展,對微納技術(shù)也提出了更高的要求, AEMD在一期科研條件的支持下,在新型光電器件、MEMS器件等方面提前布局,支撐校內(nèi)外科研團(tuán)隊在相關(guān)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破,取得了豐碩的成果。在此基礎(chǔ)上,面向國家重大需求,服務(wù)交大雙一流建設(shè)目標(biāo),AEMD二、三期又針對有源電/光器件、MEMS、異質(zhì)異構(gòu)先進(jìn)封裝等方面做前瞻布局,以期將交大微納科學(xué)基礎(chǔ)與應(yīng)用研究能力提升到更高水平。

  AEMD平臺首任主任、長江學(xué)者蘇翼凱教授表示,十余年前,AEMD平臺在交大相關(guān)學(xué)科發(fā)展急需微納加工實驗工藝平臺的背景下應(yīng)運(yùn)而生,以服務(wù)電子、物理、材料、化工等多學(xué)科的原創(chuàng)性和高水平科研為目標(biāo)一路發(fā)展至今,在光電通信、MEMS、封裝等領(lǐng)域已取得了顯著成果。欲有向上破竹之勢,需有向下扎根之力,蘇翼凱對AEMD平臺十年來取得的成果感慨至深,表示當(dāng)時立項時的目標(biāo),現(xiàn)已成功實現(xiàn),這正是一代代平臺人“不忘初心,向下扎根”的精神體現(xiàn)。

  平臺現(xiàn)任主任程秀蘭介紹平臺現(xiàn)有工藝能力及未來發(fā)展方向。據(jù)悉,平臺新增8英寸級高端微納加工與測試新設(shè)備,將有效增強(qiáng)平臺在有源電子/光學(xué)材料與器件、三維異質(zhì)集成封裝、MEMS、微納光學(xué)、先進(jìn)納米材料與器件等研究領(lǐng)域的支撐服務(wù)能力,助推上海交通大學(xué)的微納加工能力從無源器件全面提升到有源器件加工水平。

  十余年來,AEMD平臺不斷精進(jìn)與創(chuàng)新自身的工藝能力,全力支撐用戶科研攻關(guān),取得了很大的進(jìn)步。為了展現(xiàn)微納加工領(lǐng)域的匠人匠心,AEMD平臺于會前特向廣大用戶征集科研成果,舉辦學(xué)生用戶成果展大賽,并特別設(shè)置用戶成果展區(qū),重點(diǎn)展示十年間由平臺支持的代表性用戶科研成果,包括新型光電器件、三維集成存儲系統(tǒng)、超材料能源器件等尖端領(lǐng)域;顒蝇F(xiàn)場,與會領(lǐng)導(dǎo)及嘉賓向獲獎?wù)哳C發(fā)榮譽(yù)證書,并以此鼓勵平臺用戶不斷產(chǎn)出高水平科研成果。獲獎?wù)弑硎荆脚_不僅是為他們提供技術(shù)支持的關(guān)鍵力量,更是科研探索中的重要合作伙伴。

  本次活動匯聚了多家科研院所、知名企業(yè)、領(lǐng)域?qū)<壹凹夹g(shù)人員參與,部分企業(yè)向平臺捐贈最新科研儀器設(shè)備,助力微納極端加工技術(shù)的突破。(完)

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編輯:許婧  

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